中文
English
专注光谱传感和光电应用系统
电话：86-0755-23229824
手机：18948346937 / 13510373651
邮箱：sales@lisenoptics.com
地址：深圳市宝安区沙井街道后亭茅洲山工业园工业大厦全至科技创新园科创大厦11层C
微信：
微信客服号：
抖音官方号：
立即沟通
导语：
VCSEL激光是近年来发展的一种新型光电子器件，在通信、显示、生物医疗等领域有广泛的应用。然而，VCSEL激光的远场质量是影响其实际应用效果的重要因素之一。如何对VCSEL激光的远场进行优化，成为了VCSEL激光测量、制造和应用中的关键问题之一。
一、近场测量作为VCSEL激光优化的前提
1. 近场测量方法的原理
近场测量是指将测试点按照一定的方式逐个移动到VCSEL激光面前，记录每个位置处的光强分布，并用数学方法处理获得VCSEL激光的近场分布图。
2. 近场测量的参数
近场测量参数主要包括全场光强、中心光强、半径、偏斜角、波前畸变等，这些参数是优化VCSEL激光远场的前提条件。
3. 近场测量的优越性
近场测量具有分辨率高、灵敏度高、动态范围宽、可靠性好等优点，是VCSEL激光制造和优化中不可或缺的环节。
二、激光腔效率对远场优化的影响
1. 激光腔效率的含义
激光腔效率是指激光器输出功率与所分别在激光腔内绝热循环的输入功率之比。
2. 激光腔效率的测量
常见的测量激光腔效率的方法是采用时拍方法，使用两个快速光探测器进行激光面前的光功率的测量。
3. 激光腔效率的优化
通过调整激光器的反射率、外界电极的电感电容等系数，可以优化激光腔效率，求得最优参数，改善VCSEL激光的顺直度和输出质量。
三、VCSEL激光的微反射率优化远场
1. 微反射率优化远场的原理
VCSEL激光的微反射率分为内建反射率和人工制造的微反射率，在VCSEL激光制造时通过精确控制微反光镜的参数，以达到VCSEL激光远场质量的优化。
2. 微反射率优化远场的方法
掌握优化VCSEL激光微反射率的方法需要精确设计反光镜的厚度、层数，选用不同的材料等等一系列工艺和技巧，同时进行周密的测试，如LIV测试、PID技术、MOCVD工艺等的结合应用。
3. 固体表面反射率对可能的干扰
制造VCSEL激光常見使用的设置清单中的内部条纹功能以消除信号会产生干扰。在技术上这包括消除史${\pi}$耦合引入杂散光并通过其他反省来去除感受器的反光。
总结：
在VCSEL激光的制造和实际使用过程中，优化其远场质量是至关重要的一环。首先必须确保VCSEL激光的近场参数获得合适的测量和表征，这个是对远场优化所有要求的前提；其次需要研究激光发散的原因从而处理不好激光的方向性深入远场，根据实际情况对该激光消耗效率和至少一个特别重要因素如三明治结构所需要调辖进行针对性优化。
