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硅膜厚度测量
实验光路图
实物光路连接图
实验背景目的：
各种介质、半导体和金属的薄膜在电子工业、光学工业和化学工业等得到了广泛的使用。膜层的厚度对器件或仪器的性能有直接影响。如硅徽型电路的介质层的厚度和成分，对半导体工业具有很大的重要性，这些膜层的厚度将决定集成电路器件的性能和可靠性。莱森光学可提供膜厚测量服务，通过无损的光学测量方法，基于白光干涉原理，使用光纤光谱仪实现膜厚测量，以比传统的方法更精度更高，测量速度更快地测量出硅片的膜厚。
实验结果：
实验使用单晶硅作为白参考，所以以下的实验数据都是考虑了单晶硅的反射率的。以下计算薄膜的算法使用的是光谱白光干涉，拟合使用L-M拟合和PS优化结合使用。计算结果如下表格：
样品名字/位置 | 厚度/nm |
样品1-1 | 600.021 |
样品1-2 | 601.498 |
样品1-3 | 604.675 |
样品1-4 | 601.737 |
样品1-5 | 596.645 |
样品2-1 | 417.323 |
样品2-2 | 417.001 |
样品2-3 | 419.159 |
样品2-4 | 418.875 |
样品2-5 | 418.504 |
样品3-1 | 510.566 |
样品3-2 | 575.974 |
样品3-3 | 579.537 |
样品3-4 | 445.861 |
样品3-5 | 440.772 |
样品1-1
样品1-2
样品1-3
样品1-4
样品1-5
样品2-1
样品2-2
样品2-3
样品2-4
样品2-5
样品3-1
样品3-2
样品3-3
样品3-4
样品3-5
实验结论：
编号 | 平均膜厚(nm) | 标准偏差值 |
1 | 601.98275 | 2.9234102% |
2 | 418.1724 | 0.957946136% |
3 | 510.542 | 67.25537504% |
